습식 식각 화학 물질

당사의 디스플레이 클린 필터는 컬러 필터 공정에 관련된 단계뿐 아니라 TFT 어레이 제조를 위한 습식 식각, 스트리핑, 개발 및 세정 용도로 설계되었습니다. 청정도 솔루션은 고해상도 디스플레이 제조에 사용되는 재 순환 화학 세정, 고압 제트 스프레이 및 기계적 스크러빙 시스템과 같은 다양한 제균 시스템에 사용할 수 있습니다. 멤브레인은 디스플레이 기판 크기에 따른 파티클 제거 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 소재(polysulfone, polyether sulfone, polypropylene, ECTFE, PTFE 및 non de-wetting PTFE)로 제공됩니다.

맞춤형 필터는 최소 설치 공간으로 300LPM 이상의 유량을 처리하도록 설계되어 디스플레이 제조 비용을 절감하는 데 도움이 됩니다. 고유량 애플리케이션을 사용하면 필요한 제거 효율을 충족하면서 기판 표면에 결함이 발생하는 것을 효과적으로 줄이고 방지할 수 있습니다. 효과적인 여과는 디스플레이 기판을 효과적으로 청소하기 위해 화학 세정 시 입자가 발생하지 않도록 유지하는 데 필수적입니다. Pall 필터를 사용하면 세정용 화학 물질의 불순물을 적극적으로 제거하여 GEN 10 이상의 요구 사항을 충족시키면서 기판 사이즈를 더 작게 만들 수 있습니다.

용도:

• 순환 세정
• 싱글 패스 시스템
• 고속 제트 분사 시스템
• QDR(Quick Dump Rinse) 시스템
• 기계식 스크러빙 시스템
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이점:

•  향상된 공정 안정성
• 고유량 애플리케이션용 설계
• 공정 효율성 증대
• 화학 물질 수명 연장
• 디스플레이 결함 감소
• GEN 10 이상의 요구 사항 충족

당사의 습식 식각 세정 필터는 중요한 세정 시스템에서 결함을 유발하는 오염 물질을 제거합니다. Pall 전문가에게 연락하여 공정 조건을 더 잘 제어할 수 있게 운영 효율성을 개선하고 기술 발전을 강화할 수 있는 방법을 알아보십시오.